光解氧化除臭设备采用微波场激发紫外线灯，产生高强紫外线，其中154nm-185nm波长在系列光谱中使占比例高达14%，紫外线剂量大于65mw/cm2，光子能量大于880kJ/mol，是当前工业UV/O3紫外灯中剂量和能量的紫外线，能迅速裂解硫化氢(H-S键能为368kJ/mol)，氨气(H-N键能为393kJ/mol)等键能小于880kJ/mol的分子键；光解时间大于1s，紫外线同样能裂解自然界中相对比较稳定的氮氮叁键(键能941.69kJ/mol )。紫外线光解氧气产生臭氧(活氧O3)，臭氧能快速氧化金属性较强的污染物，臭氧量可根据污染物的浓度以及后续反应时间设定。
等离子分解区：采用了独特的吸附-分解-碳化工艺技术设计，无需再生处理原料，无需专人负责，不产生二次污染。采用脉冲高压高频等离子体电源和齿板放电装置，使其产生高强度、高浓度、高电能的活性自由基，在毫秒级的时间内，瞬间对经过UV光解区进入等离子分解区的气体内残留的有害分子进行氧化还原反应，将废气中的污染物降解成二氧化碳和水及易处理的物质。利用催化氧化剂的强氧化性和高吸附性，持续地对等离子体未处理尽的污染物和生成的物质进行催化氧化反应，使有害废气经多级净化后终达标排放。
设备设有活性碳纤维过滤，紫外线灯光解和臭氧氧化混合装置组成，自控系统可以装配紫外线强度传感器，臭氧浓度传感器，温度传感器，污染物浓度传感器，流量计，采用触摸屏+PLC控制，可作为高浓度污染物处理的配套设备。
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